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平板擠壓狹縫鈣鈦礦塗布機膠水電(diàn)池基片OLED光電膜導(dǎo)電膜塗覆

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產品概述


適用於片狀基材表(biǎo)麵塗覆的設備,選用狹縫模頭(tóu)塗覆工藝,主(zhǔ)要應用於(yú)實驗室研發,可在手套箱內工(gōng)作。本設(shè)備主要用於各(gè)類型膠水、鋰電池基片、OLED、太陽能光電膜和聚合物(wù)導電膜等領域的(de)片式基材的(de)表麵塗覆。采用擠壓式塗覆工(gōng)藝,塗覆精度高(gāo)、一致性好(hǎo),塗布窗口較寬;片式擠壓塗(tú)覆,塗覆精(jīng)度高,一(yī)致性好; 適合低粘(zhān)度塗料,薄塗工藝;塗料及基材(cái)需求量小,使用方便,適合工藝驗證:塗覆基(jī)板帶真空吸附功能;塗敷基板帶加熱功能,溫度可控;可(kě)選(xuǎn)配多種塗布工藝;可選配風刀模塊進行鈣鈦礦塗布;可選配特殊塗覆板進行隔膜塗覆; 可在手(shǒu)套箱內使用。

技術參(cān)數

塗布方式(shì) 擠壓狹縫
基材寬度 ≤800 (mm)
速度控製範圍(wéi) 0-500(m/min)
塗布濕膜厚(hòu)度 0.01-10(mm)
膜厚均勻度 0.002mm
供料係統 高精(jīng)度供(gòng)液泵/齒輪泵/螺杆泵+耐(nài)腐蝕(shí)管路+魯爾接頭
控製方式 交流伺服+減(jiǎn)速機+絲杆(gǎn)+光柵反饋+PLC全自動/觸控屏控製加到表格裏 大尺(chǐ)寸觸控(kòng)屏控製,係統參數可視化
設備尺寸 740 x444x425mm(可定製)
固(gù)含(hán)量 0-100%
基材固定(dìng)方(fāng)式 真空吸附
塗布平台材質 大理石底座
粘度 1-8000 (cps)
加熱溫度 ≤150℃

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